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吉倉納米石墨烯標準JCG201307-3
石墨烯材料的名詞術語和定義
1 范圍
本標準規定了吉倉石墨烯材料的名詞術語和定義等。
本標準適用于吉倉石墨烯材料的生產、應用、檢驗、流通、研發等環節。
2 分類
本標準術語分為4類。
a)基本概念
b)按功能和應用分類的術語;
c)按幾何尺寸分類的術語;
d)與石墨烯材料產品代號相關的術語。
3 定義
3.1
基本概念
石墨烯(Graphene)由一個碳原子與周圍三個近鄰碳原子結合形成蜂窩狀結構的碳原子單層。
  • 注:它是許多碳納米物體的重要構建單元。
 
3.1.1
石墨烯材料  graphene materials; graphene-based materials是由石墨烯(3.1)及其在層數、片徑、改性、結構等方面變化產生石墨烯衍生物的統稱。
 
3.1.2
層數 number of  layers
石墨烯(3.1)或改性石墨烯(3.2.2)中在堆垛方向上所包含石墨烯(3. 1)的數目。
注:石墨烯(3. 1)堆垛方向指垂直于石墨烯(3.1)的方向。
3.1.3
片徑 diameter
垂直于石墨烯(3. 1)堆垛方向的橫向尺寸。
3.1.4厚度
     石墨烯(3.1)堆垛方向尺寸
3.2 按功能和應用分類的術語
3.2.1
單層石墨烯是石墨烯(3.1)的別稱,特別強調層數。 graphene; single-layer graphene, SLG; monolayer graphene
3.2.1.2
雙層石墨烯  bilayer graphene; double-layer graphene
由2層石墨烯(3.1)以不同堆垛方式堆垛構成的石墨烯材料。
3.2.1.3
多層石墨烯 graphenes; multi-layer graphene, MLG
由3-10層石墨烯(3.1)以不同堆垛方式堆垛構成的石墨烯材料。
3.2.2
改性石墨烯  modified graphene
官能化石墨烯  functionalized graphene
通過化學法或物理法在石墨烯(3. 1)中引入異質原子或官能團后所形成的石墨烯材料(3.1.1)。
注:改性石墨烯(3.2.2)包括氧化石墨烯(3.2.2.1)。
3.2.2.1
氧化石墨烯  graphene oxide
在石墨烯(3.1)的表面或邊界連接有含氧官能團(基團)的石墨烯材料。
3.2.2.2
還原氧化石墨烯  reduced oxide of graphenes;rgo
通過化學法或物理法不完全去除氧化石墨烯(3.2.2.1)中的含氧官能團(基團)后得到的石墨烯(3.1)。
3.3 按片徑大小分類的術語
3.3.1
石墨烯量子點  graphene quantum dot, GQD
片徑尺寸在10納米左右及以下的石墨烯(3.1)。
注:石墨烯量子點(3.3.1)的層數(3.1.2)不多于10層。
3.3.2
石墨烯納米帶  graphene nanoribbon
在片徑(3.1.3)上尺度小于10納米的條帶狀石墨烯材料(3.1.1)。
注:石墨烯納米帶(3.3.2)的層數(3.1.2)不多于10層。
3.3.3
石墨烯納米片  Graphene Nanoplate,GNP
層數(3.1.2)大于10層且厚度小于8納米的石墨烯材料(3.1.1)
3.3.4
石墨烯薄膜  graphene film
片徑(3.1.3)尺度大于等于100微米的石墨烯材料(3.1.1)。
3.3.5
石墨烯三維網絡  three-dimensional graphene network
由石墨烯(3.1)或改性石墨烯(3.2.2)為結構單元構成的三維網狀石墨烯材料(3.1.1)。
3.4 石墨烯的制備方法
3.4.1
機械剝離法  mechanical  exfoliation
通過對石墨晶體施加物理機械力(如摩擦力、拉力等)的方式將石墨烯(3. 1)從石墨晶體中剝離出來的方法。
3.4.2
化學氣相沉積法  chameical vapor disposition
高溫下含碳原子氣體在金屬或非金屬表面分解并沉積生成石墨烯(3.1)的方法。
3.4.3
氧化還原法  oxidation reduction
通過將石墨氧化以引入含氧官能團并增大石墨層間距,經過層層分離后形成氧化石墨烯(3.2.2.1),對其進行還原后得到還原氧化石墨烯(3.2.2.2)的方法。
3.4.4
高溫裂解法  high temperature pyrolysis
在高溫(借助催化劑或無催化劑)條件下,將含有碳元素的化合物(如碳化硅SiC等)通過熱裂解的方式生成石墨烯(3.1)的方法。
3.4.5
插層剝離法  intercalation exfoliation
將其他原子或分子(如溴Br2,氯化鐵FeCl3,有機分子等)插入到石墨層間以增大石墨層間距,經過層層分離后形成石墨烯材料(3.1.1)的方法。
3.5 石墨烯產品編號

一、石墨烯厚度變化及命名的變化
1.    石墨烯厚度《1nm或層數1層,統稱單層石墨烯。
2.    石墨烯厚度1~2nm或層數5層以內,統稱為少層或者寡層石墨烯
3.    石墨烯厚度為2~5nm或者5~10層的,統稱多層石墨烯。
4.    石墨烯厚度為5~8nm或10層以上的,統稱石墨烯納米片。
5.    厚度大于8~25nm的石墨納米片。
6.    厚度做后綴標示在后面,nm為默認。
二.石墨烯片徑的變化及命名的變化
1.    片徑《10nm,厚度《1nm的,命名為石墨烯量子點,命名為納微尺寸。
2.    片徑《100nm的,厚度1nm左右的,命名為納小尺寸。
3.    片徑100~200nm的,厚度1nm左右的,命名為納小尺寸。
3-1. 片徑200~500nm的,厚度1nm左右的,命名為納中尺寸。
3-2. 片徑500nm~1μm的,厚度1nm左右的,命名為納大尺寸。
4-1. 片徑1~10μm的,厚度1nm左右的,命名為普通尺寸。命名為微小尺寸。
5.    片徑10μm~100μm的,厚度1nm左右的,命名為大尺寸。命名為微大尺寸。
6.    片徑》100μm的,厚度1nm左右的,命名為超大尺寸。
7.    片徑作為后綴標示在后面,μm為默認。
三.純度的變化及其命名的變化
1.     純度》95的為普通純度。
2.     純度》99%的為高純度。
3.     純度《70%為低純度。
4.     純度作為后綴標示在后面,如純度為95%,標示為-95。
四.石墨烯種類變化及其命名變化
1.還原法石墨烯為RG。
2.化學法還原為CRG。
3.熱還原發為TRG。
4.氧化石墨烯(石墨烯氧化物)為GO。
5.石墨烯量子點GD,D取自dote。
6.氧化石墨烯量子點GOD。
7.石墨烯微片GNP。
8.插層法IG。
9.化學氣相沉積法制備石墨烯薄膜CVG。
10.單晶石墨烯SCG,SC取自Single crystal。
五.氣相沉積法石墨烯膜的命名
1.單層的氣相沉積法石墨烯膜CVSG,去single第一個字母。
2.雙層及以上層數的在后面標相應的-數字,如2層,-2。
3.單層率分90%和85%兩種,標在后面。
4.方塊電阻分方阻500-800和方阻1000-2000兩種標在后面。
5.基底作為后綴標在后面,如銅基底的,標示為-Cu。
6.泡沫鎳石墨烯膜NFG,NF取自Nickel foam。
7.氧化石墨烯膜GOF,F取自film。
8.尺寸用長/寬表示,如1*1cm表示為1/1,cm為默認。
 
9.旋涂PMMA的預制石墨烯膜標示為CVPG,去PMMA第一個字母P,也是prior的第一個字母。
六.改性及修飾后石墨烯命名
1.羥基改性的命名為羥基化石墨烯,型號加上后綴-OH。
2.羥基改性的命名為羥基化石墨烯,型號加上后綴-COOH。
3.氨基改性的命名為氨基化石墨烯,型號加上后綴-NH2。
4.巰基改性的命名為巰基化石墨烯,型號加上后綴-SH。
5.各種金屬摻雜的命名為某元素摻雜石墨烯,鉑摻雜石墨烯,后綴加上-Pt。
6.各種分散液,型號上加后綴該溶劑簡稱,比如:溶劑為水可以加上-H2O或者-W
七.我公司命名實例。
我公司石墨烯命名從純粹編號演化到現在的,根據型號命名即可基本判斷該石墨烯基本特性。
舉例:
吉倉高純度普通尺寸氧化石墨烯
JCGO-99-1-2
JC:吉倉公司標志
GO:氧化石墨烯
99:純度99%
1:厚度1nm
2:片徑2微米
吉倉預制單層銅基石墨烯膜
JCVSPG-90-1-10/10-Cu。
 
 
 南京吉倉納米科技有限公司
 
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